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深度解讀:我國(guó)獨(dú)有的一個(gè)優(yōu)勢(shì),讓追上西方半導(dǎo)體技術(shù)提前15年

作者:好人長(zhǎng)安君 來(lái)源: 頭條號(hào) 69702/20

文/好人長(zhǎng)安君圖/網(wǎng)絡(luò)大概從去年九月開始,半年來(lái)看了很多美國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展歷史的資料,時(shí)間跨度大概是從20世紀(jì)初之后的一百年間。同時(shí)也對(duì)比了中國(guó)近代經(jīng)濟(jì)、科技等領(lǐng)域的變動(dòng)和發(fā)展,尤其對(duì)比了兩個(gè)國(guó)家經(jīng)濟(jì)發(fā)展的黃金時(shí)期,還有日本發(fā)展黃金期的政策推動(dòng)、

標(biāo)簽:


文/好人長(zhǎng)安君

圖/網(wǎng)絡(luò)


大概從去年九月開始,半年來(lái)看了很多美國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展歷史的資料,時(shí)間跨度大概是從20世紀(jì)初之后的一百年間。同時(shí)也對(duì)比了中國(guó)近代經(jīng)濟(jì)、科技等領(lǐng)域的變動(dòng)和發(fā)展,尤其對(duì)比了兩個(gè)國(guó)家經(jīng)濟(jì)發(fā)展的黃金時(shí)期,還有日本發(fā)展黃金期的政策推動(dòng)、科技進(jìn)步以及經(jīng)濟(jì)發(fā)展模式。

看這些是想寫寫中美科技競(jìng)爭(zhēng)的未來(lái)態(tài)勢(shì)——我認(rèn)為中美科技競(jìng)爭(zhēng)將是很長(zhǎng)時(shí)間內(nèi)的一種常態(tài),它的結(jié)果也非常重要,甚至決定著地球的下一個(gè)時(shí)代。

起初我看的資料少,對(duì)于半導(dǎo)體競(jìng)爭(zhēng)的局面有個(gè)稍顯保守的判斷——我們至少需要30年才能夠在技術(shù)上完全超越西方國(guó)家。這個(gè)判斷基于我國(guó)在半導(dǎo)體所涉及的多個(gè)工業(yè)領(lǐng)域的落后,以及民眾對(duì)于這件事的態(tài)度過(guò)于樂(lè)觀——我認(rèn)為這種態(tài)度甚至?xí)娱L(zhǎng)我們趕超的時(shí)間。

但最近這段時(shí)間,因?yàn)橄肷钊肓私鈬?guó)產(chǎn)半導(dǎo)體行業(yè)的發(fā)展?fàn)顩r,就多了解了一些近些年的事情。了解后我覺得此前的判斷確實(shí)過(guò)于保守,甚至顯得有些悲觀,因?yàn)槲野l(fā)現(xiàn)自己忽略了一樣?xùn)|西,而這是西方國(guó)家不具備的、可以加速我們科技進(jìn)步的東西。

今天就簡(jiǎn)單聊聊,為什么我現(xiàn)在會(huì)認(rèn)為,中國(guó)至多十五年就能實(shí)現(xiàn)在半導(dǎo)體技術(shù)上對(duì)西方國(guó)家的趕超。


半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈全景圖,圖片來(lái)自半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)研究院


第一:技術(shù)差距參差不齊,但真正需要從理論開始研究的并不多


先講講國(guó)內(nèi)半導(dǎo)體行業(yè)的基本情況,我們可以把半導(dǎo)體核心環(huán)節(jié)簡(jiǎn)單分成四塊——設(shè)計(jì)、設(shè)備、材料、制造。


先說(shuō)半導(dǎo)體設(shè)計(jì)。

這里主要涉及的是EDA軟件,也叫做電子設(shè)計(jì)自動(dòng)化軟件,它的作用就是在計(jì)算機(jī)上進(jìn)行超大規(guī)模集成電路的電子設(shè)計(jì)(包括功能設(shè)計(jì)和物理設(shè)計(jì))、綜合、驗(yàn)證等功能,就相當(dāng)于能使用它在電腦上制造一個(gè)“電子芯片”。EDA軟件就是由眾多功能模塊構(gòu)成的一個(gè)軟件平臺(tái),功能模塊越豐富,理論上來(lái)說(shuō)設(shè)計(jì)工作就更高效。


EDA軟件界面


國(guó)內(nèi)外技術(shù)差距體現(xiàn)在兩個(gè)方面:第一,國(guó)外巨頭開發(fā)出來(lái)的功能模塊更豐富完整,國(guó)內(nèi)能做的功能模塊就比較少;第二,同一類型不同功能模塊的設(shè)計(jì),以及軟件操作體驗(yàn),國(guó)外巨頭的產(chǎn)品都要比國(guó)產(chǎn)表現(xiàn)得更有深度,存在著技術(shù)上的代際差距。

綜合來(lái)講,就是廣度和深度上均相差大概兩個(gè)代際(或數(shù)量級(jí))。

同時(shí)因?yàn)槊绹?guó)于2022年正式宣布其EDA軟件對(duì)中國(guó)企業(yè)斷供,短時(shí)間國(guó)內(nèi)企業(yè)很難從海外獲得技術(shù)上的“養(yǎng)分”,他們的前路會(huì)更艱難。

根據(jù)保守估計(jì),這個(gè)差距在五到十年之間。


光刻機(jī)設(shè)備的一部分

其次是半導(dǎo)體設(shè)備。

這個(gè)大家了解的比較多,主要涉及六類設(shè)備:光刻機(jī)、刻蝕設(shè)備、鍍膜設(shè)備、量測(cè)設(shè)備、清洗設(shè)備、離子注入設(shè)備。著重說(shuō)說(shuō)光刻機(jī)。

光刻機(jī)涉及的細(xì)分領(lǐng)域非常多,包括系統(tǒng)集成、精密光學(xué)、精密運(yùn)動(dòng)、精密物料傳輸、高精度微環(huán)境控制等多項(xiàng)先進(jìn)技術(shù)。而且一臺(tái)光刻機(jī)的制造需要約八萬(wàn)個(gè)精密零件,而最為先進(jìn)的極紫外EUV光刻機(jī)更是需要十余萬(wàn)精密零件,這就涉及到材料學(xué)、精密加工等領(lǐng)域。

光刻機(jī)的核心是其光科技部分,包含了曝光系統(tǒng)、自動(dòng)對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)等等,在所有光科技相關(guān)精密部件中,光學(xué)鏡頭、光源、雙工作臺(tái)又算是“核心中的核心”。

目前在國(guó)內(nèi)產(chǎn)業(yè)鏈的幫助下,已經(jīng)逐漸解決了雙工作臺(tái)和激光光源等相關(guān)關(guān)鍵部件,但現(xiàn)有這些大概率只能滿足14nm乃至于28nm以上制程的需求,與ASML等相比,差距依然巨大。

根據(jù)現(xiàn)在的一個(gè)保守估計(jì),最理想狀態(tài)下實(shí)現(xiàn)全面趕超也需要十年。

余下的刻蝕設(shè)備、鍍膜設(shè)備、清洗設(shè)備領(lǐng)域,國(guó)內(nèi)企業(yè)在技術(shù)差距上已經(jīng)拉近到三年以內(nèi),與國(guó)外企業(yè)的差距主要體現(xiàn)在商業(yè)指標(biāo)上,而非技術(shù)指標(biāo);在量測(cè)設(shè)備和離子注入設(shè)備上也都已經(jīng)進(jìn)入高端領(lǐng)域,在技術(shù)上的差距同樣在拉近,這個(gè)差距最多應(yīng)不超過(guò)五年。


硅晶圓細(xì)節(jié)


再次是半導(dǎo)體材料。

因?yàn)樯婕暗礁鱾€(gè)環(huán)節(jié),所以這個(gè)領(lǐng)域所涉及的細(xì)分行業(yè)比較多,最主要原材料包括硅片、電子氣體、掩模板、光刻膠等。

這個(gè)領(lǐng)域國(guó)內(nèi)的情況比較復(fù)雜,大概可以分成三個(gè)等級(jí)。

第一個(gè)等級(jí)是技術(shù)標(biāo)準(zhǔn)能夠?qū)崿F(xiàn)全球一流水平且能實(shí)現(xiàn)中大批量供貨的(技術(shù)成熟,完全量產(chǎn)),包括靶材、封裝基板、CMP拋光材料、濕電子化學(xué)品,部分封裝材料等;第二個(gè)等級(jí)是達(dá)到一流水平但只能小批量供貨的(技術(shù)不夠完善,小批量生產(chǎn)),包括硅片、電子氣體、化合物半導(dǎo)體、掩模;第三個(gè)等級(jí)是與一流技術(shù)水平存在較大差距完全無(wú)法量產(chǎn)的,比如說(shuō)光刻膠。

保守估計(jì),要實(shí)現(xiàn)半導(dǎo)體材料領(lǐng)域的全面技術(shù)突破,最多也就是五年的時(shí)間。


臺(tái)積電創(chuàng)始人張忠謀


最后是半導(dǎo)體制造,也就是晶圓代工行業(yè)。

這個(gè)怎么說(shuō)呢,中芯國(guó)際雖然在技術(shù)水平和規(guī)模上跟三星、英特爾、臺(tái)積電完全無(wú)法相比,但是它目前主要受困于光刻機(jī)供應(yīng)問(wèn)題。制程工藝之間的差距并不像大眾所想象的那樣小,并不是說(shuō)有了EUV中芯國(guó)際就能搞出5nm芯片,但如果中芯國(guó)際能夠買到EUV,那么幾乎可以肯定的一點(diǎn)是,它從7nm推進(jìn)到5nm的周期大概率比臺(tái)積電這幾家要快得多。

所以晶圓代工行業(yè)的發(fā)展邏輯還是取決于光刻機(jī)的先進(jìn)程度。從這個(gè)角度來(lái)講,晶圓代工國(guó)內(nèi)外的差距大概在五年左右。


對(duì)于以上內(nèi)容我有必要再?gòu)?qiáng)調(diào)兩點(diǎn):

第一,上邊估計(jì)的年限幾乎全都低于或等于十年,但這個(gè)年限代表的是單個(gè)技術(shù)的突破,它們距離組成產(chǎn)業(yè)鏈還有至少兩個(gè)階段——技術(shù)融合階段、商業(yè)化階段。其中技術(shù)融合階段指的是單個(gè)技術(shù)要達(dá)到能融合進(jìn)整個(gè)設(shè)備或者產(chǎn)業(yè)鏈細(xì)分行業(yè)中去,在此之前的磨合、調(diào)整、驗(yàn)證及定型階段,商業(yè)化階段則是指滿足商業(yè)化經(jīng)營(yíng)指標(biāo)的過(guò)程。

這兩個(gè)階段所需要的時(shí)間不一定,綜合來(lái)講,五年時(shí)間磨合成型,讓芯片產(chǎn)線落地是一個(gè)比較合理甚至偏謹(jǐn)慎的日期。

第二,對(duì)技術(shù)攻關(guān)的時(shí)間為什么普遍設(shè)定在十年以內(nèi)呢?有一部分人可能會(huì)覺得過(guò)于悲觀,對(duì)此我只能說(shuō),半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的建設(shè)從難度系數(shù)來(lái)看是要比原子彈的研發(fā)與攻關(guān)多出一個(gè)數(shù)量級(jí)的(甚至更多)。

而應(yīng)該也有一部分人會(huì)認(rèn)為我說(shuō)的這個(gè)時(shí)間過(guò)短,對(duì)此我的答案是——我們都低估了我們的制度優(yōu)勢(shì),對(duì)于半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈這種具備知識(shí)密集型特點(diǎn)的“大工程”,也許只有我們可以創(chuàng)造一個(gè)技術(shù)奇跡。

這就是我接下來(lái)要說(shuō)的第二點(diǎn)。


第三次工業(yè)革命象征之一,航天飛機(jī)


第二:經(jīng)濟(jì)、科技后發(fā)劣勢(shì),由我們的制度優(yōu)勢(shì)來(lái)對(duì)沖


從發(fā)展歷史來(lái)看,西方國(guó)家的工業(yè)體系在第二次工業(yè)革命前就已經(jīng)發(fā)展成熟,與此配套的科研、商業(yè)化運(yùn)作、金融等領(lǐng)域也都比較活躍與完善,對(duì)制度的探討與完善也早就已經(jīng)完成。兩次世界大戰(zhàn)的發(fā)生,近乎摧毀了歐洲國(guó)家在前兩次工業(yè)革命中所建立的工業(yè)體系,但是軟實(shí)力上受損不大,這也是二戰(zhàn)后它們得以迅速恢復(fù)實(shí)力的重要原因之一。

這里邊最大的例外就是美國(guó)。

自美國(guó)內(nèi)戰(zhàn)結(jié)束到今天為止的一個(gè)半世紀(jì)內(nèi),美國(guó)經(jīng)歷三次工業(yè)革命中的后兩次——電氣時(shí)代和電子信息時(shí)代,并成為這兩次工業(yè)革命最大的獲益者。

美國(guó)在電氣時(shí)代中后期崛起為世界第一大經(jīng)濟(jì)體,有內(nèi)部資本主義蓬勃發(fā)展的原因,但更重要的是外部原因——隨著歐洲戰(zhàn)火的燃起,世界科技中心及金融中心逐漸從歐洲轉(zhuǎn)移到北美洲,這些都幫助美國(guó)建立起一個(gè)更加健全的科技發(fā)展支撐體系。

而二戰(zhàn)后世界新秩序的建立,讓美國(guó)建立起對(duì)人才巨大的虹吸效應(yīng),加上當(dāng)時(shí)美國(guó)在科技發(fā)展方面所具備的制度優(yōu)勢(shì)——人才引進(jìn)、激勵(lì)政策,對(duì)社會(huì)晉升制度的提升……這些成為了第三次工業(yè)革命在美國(guó)誕生并壯大的根本所在。


改革開放帶來(lái)的巨大變化


與美國(guó)相比,我國(guó)近代史長(zhǎng)期處于戰(zhàn)亂時(shí)期,加上封建歷史時(shí)期過(guò)長(zhǎng),封建守舊思想過(guò)于頑固,這些就造成了我國(guó)現(xiàn)代制度建設(shè)起步晚,經(jīng)濟(jì)、科技落后,與之相配套的發(fā)展理念普遍落后的特點(diǎn)。

我國(guó)真正開始進(jìn)行經(jīng)濟(jì)、科技、金融等現(xiàn)代化建設(shè),其實(shí)是從改革開放開始的,市場(chǎng)經(jīng)濟(jì)體制的出現(xiàn)是一個(gè)標(biāo)志。

在改革開放初期,我國(guó)的工業(yè)與科技現(xiàn)狀與國(guó)外相比存在著非常大的差距。我們?cè)诮?jīng)濟(jì)、科技、金融等領(lǐng)域后發(fā)劣勢(shì)與先進(jìn)國(guó)家相比甚至可以落后半個(gè)世紀(jì),很多領(lǐng)域幾乎處于一窮二白的地步。

在這個(gè)基礎(chǔ)上,國(guó)家為了彌補(bǔ)這之間的巨大差距,進(jìn)行了長(zhǎng)達(dá)二十年的艱難摸索,在市場(chǎng)制度、教育制度、科研制度、金融制度、財(cái)政制度等多個(gè)領(lǐng)域進(jìn)行了一場(chǎng)結(jié)合中國(guó)國(guó)情的現(xiàn)代化改革。

這種制度上的“移風(fēng)易俗”,推動(dòng)了九年義務(wù)教育的實(shí)施,推動(dòng)了工業(yè)強(qiáng)國(guó)基本國(guó)策,推動(dòng)了“數(shù)理化”及理工科教育成為整個(gè)教育體系中的核心,推動(dòng)了民營(yíng)企業(yè)發(fā)展大潮,推動(dòng)了社會(huì)資源對(duì)科研領(lǐng)域的大舉進(jìn)入……客觀上說(shuō),改革開放正是在前二十年制度摸索與建設(shè)的基礎(chǔ)上,才有了后二十年的騰飛。

并且制度的更新依然在不斷進(jìn)行著,時(shí)至今日,這個(gè)龐大的制度體系已經(jīng)成為我國(guó)經(jīng)濟(jì)發(fā)展的獨(dú)特優(yōu)勢(shì),它可以對(duì)社會(huì)資本資源進(jìn)行宏觀調(diào)控,也能通過(guò)對(duì)制度的微調(diào)釋放巨大的創(chuàng)新動(dòng)力。

這里邊例子很多,比如說(shuō)鼎鼎大名的“863計(jì)劃”,這個(gè)計(jì)劃于1986年3月提出,經(jīng)廣泛論證后形成實(shí)施規(guī)劃,并于1987年正式實(shí)施,共有一萬(wàn)余名科學(xué)家參與其中,極大拉近了在重點(diǎn)科技領(lǐng)域我國(guó)與西方國(guó)家的差距。



在半導(dǎo)體領(lǐng)域,國(guó)家曾在90年代先后推出過(guò)“908工程”“909工程”。但第一次限于沒(méi)有市場(chǎng)主體的參與,僅有軍工單位的支持,很難保持延續(xù)性而被迫停下;第二次還是太過(guò)于依賴政府決策,市場(chǎng)側(cè)所起的作用很小,企業(yè)也不具備完善的科研制度等,以及開放程度的問(wèn)題,最終夭折。

在加入WTO二十年后的現(xiàn)在,我們的各項(xiàng)制度建設(shè)已經(jīng)逐漸細(xì)化完善,同時(shí)也越來(lái)越意識(shí)到半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的重要性,如今【半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈的“863計(jì)劃”】實(shí)際上也已經(jīng)展開。

國(guó)家從頂層設(shè)計(jì)、教育科研制度改革、金融引導(dǎo)、社會(huì)宣傳等多個(gè)領(lǐng)域,提升半導(dǎo)體行業(yè)在科技領(lǐng)域的地位,為其發(fā)展提供全面的支持。

說(shuō)個(gè)很簡(jiǎn)單的例子,現(xiàn)在很多高中生都已然將進(jìn)入半導(dǎo)體行業(yè)視為未來(lái)發(fā)展方向,半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈核心企業(yè)的社會(huì)融資規(guī)模與進(jìn)度都提升很多,大政策領(lǐng)域提倡“脫虛向?qū)崱?,“十四五?guī)劃”將半導(dǎo)體發(fā)展列入“前排”進(jìn)行強(qiáng)調(diào)……諸如此類,不勝枚舉。

也許三兩年內(nèi)我們還很難看到這些改變所呈現(xiàn)的效果,但是十年以后,相關(guān)行業(yè)人才的井噴、研發(fā)成果的大量涌現(xiàn)以及在應(yīng)用端取得大量成果——這幾乎是必然結(jié)果。



寫在最后


真實(shí)的半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展?fàn)顩r肯定比文中所寫更為復(fù)雜,因?yàn)楫?dāng)前的半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈,是一個(gè)被固化太久、分工很細(xì)的全球化體系。所以我們自建產(chǎn)業(yè)鏈面臨的不僅僅是技術(shù)方面的障礙,還有專利、市場(chǎng)準(zhǔn)入、商業(yè)變現(xiàn)等等很現(xiàn)實(shí)也很復(fù)雜的問(wèn)題。

但是我們需要堅(jiān)定一個(gè)認(rèn)知——中美科技競(jìng)爭(zhēng)不可避免,中國(guó)未來(lái)科技發(fā)展與經(jīng)濟(jì)轉(zhuǎn)型離不開半導(dǎo)體技術(shù),而美國(guó)只會(huì)加大封鎖力度。

在這個(gè)認(rèn)知基礎(chǔ)上,我們需要知道建設(shè)國(guó)產(chǎn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)鏈勢(shì)在必行且迫在眉睫。

所以除了商業(yè)上的權(quán)衡,或者對(duì)于高端制造領(lǐng)域技術(shù)整體提升的考慮之外,更重要的是考慮到國(guó)家的戰(zhàn)略需要——半導(dǎo)體技術(shù)發(fā)展關(guān)系到中國(guó)的未來(lái)發(fā)展與國(guó)際地位。

這也是國(guó)家全力推動(dòng)這個(gè)產(chǎn)業(yè)發(fā)展的最主要原因,在這個(gè)理由之下,資源資本大量投入,各方配合,集中力量實(shí)現(xiàn)技術(shù)攻關(guān)……所以我才會(huì)忽略技術(shù)之外的其他因素,來(lái)推斷出這個(gè)時(shí)間。

最后還想說(shuō),十五年很長(zhǎng)也很短,希望我們一起努力,共同成為中國(guó)重回世界之巔的見證者與參與者。

共勉!

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