大家都喜歡討論彎道超車，的確，在二十年前，半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的確遇到過兩個(gè)彎道超車的機(jī)會(huì)：

第一個(gè)就是半導(dǎo)體工藝從平面到3D的轉(zhuǎn)變，F(xiàn)inFET的崛起奠定了今天臺(tái)積電的宏圖偉業(yè)；

第二個(gè)是EUV光刻機(jī)取代DUV光刻機(jī)的顛覆性轉(zhuǎn)變，EUV光刻機(jī)的崛起奠定了今天ASML的宏圖偉業(yè)。

不過我們似乎并沒有集中力量討論，為何二十年前的兩次彎道超車的機(jī)會(huì)，一個(gè)發(fā)生在中國(guó)臺(tái)灣，另一個(gè)發(fā)生在歐洲荷蘭，卻都被內(nèi)地的工業(yè)界完美錯(cuò)過了。

最近，《中國(guó)科學(xué)院院刊》刊載了駱軍委、李樹深的文章《加強(qiáng)半導(dǎo)體基礎(chǔ)能力建設(shè) 點(diǎn)亮半導(dǎo)體自立自強(qiáng)發(fā)展的“燈塔”》，文章指出：

由于西方制裁，包含下一代半導(dǎo)體工藝GAA制程有關(guān)的PDK的EDA工具對(duì)中國(guó)全面封鎖，我國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展進(jìn)入“黑暗森林”。

這其實(shí)是沒有辦法的事情，因?yàn)橛幸粋€(gè)半導(dǎo)體界的彎道超車工藝--GAA所依賴的制程，又幾乎是與西方壟斷的EUV光刻機(jī)深度綁定的。

然而，對(duì)于文中的問題，我們始終沒有答案：

是誰(shuí)導(dǎo)致了我國(guó)決策者、政府人員甚至產(chǎn)業(yè)界都認(rèn)為，沒有半導(dǎo)體基礎(chǔ)研究也可以發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)？

如果我們不能夠清晰的問答這個(gè)問題，既不能找到發(fā)展的方向，更不能保證下一步的發(fā)展不會(huì)繼續(xù)被錯(cuò)誤的判斷誘導(dǎo)！

當(dāng)然，對(duì)于“黑暗森林”，簡(jiǎn)體中文自媒體也是可以搞定的，因?yàn)楫吘顾麄兛梢允止ね瓿?.85納米芯片，以后臺(tái)積電和ASML就只能“家里蹲”了。

我曝光了無(wú)數(shù)的浮夸沸騰自媒體，后來(lái)發(fā)現(xiàn)他們?cè)诰W(wǎng)絡(luò)存在的時(shí)間已經(jīng)很久了。

其實(shí)這幾個(gè)自媒體的文章，根本不需要?jiǎng)幽X子，只需要每天改幾個(gè)關(guān)鍵詞就可以循環(huán)播放了，比如“北大光刻機(jī)”改成“中國(guó)碳芯片”、“清華EUV光源”、“哈工大極紫外光刻機(jī)”、“長(zhǎng)光所EUV整機(jī)”、“上海光機(jī)所DUV光學(xué)集成”、“中科院鍍膜機(jī)”，文中內(nèi)容沒所謂，因?yàn)榫W(wǎng)民需要的是自嗨，滿足了自嗨的補(bǔ)血功能就可以了。

但是，就更深層次的問題而言：為什么我們的社會(huì)輿論全部是這種浮夸沸騰的文字呢？

是浮夸沸騰的科技嗨文的誘導(dǎo)，誤導(dǎo)了我國(guó)決策者、政府人員甚至產(chǎn)業(yè)界都認(rèn)為，沒有半導(dǎo)體基礎(chǔ)研究也可以發(fā)展半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)？

還是由于我國(guó)的決策者、政府人員甚至產(chǎn)業(yè)界的盲目樂觀和錯(cuò)誤判斷，促成了與之匹配的浮夸沸騰輿論和其生存土壤？

我想，在面對(duì)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)面對(duì)的“黑暗森林”困局的時(shí)候，有必要重新審視這個(gè)嚴(yán)肅的問題。