針對中國半導體產(chǎn)業(yè)，日本出手了！

根據(jù)綜合媒體證實，日本某光刻膠大廠已經(jīng)執(zhí)行美國“實體清單”的限制要求，對中國某家晶圓廠斷供了KrF光刻膠。相對于光刻膠，大家可能會對光刻膠這個詞有些陌生，沒關系，接下來我先給大家科普一下光刻膠以及這玩意對半導體產(chǎn)業(yè)的重要性。

光刻膠，專業(yè)名稱光致抗蝕劑，通過紫外光、X射線等的照射下，所溶后產(chǎn)生的“耐蝕劑刻薄膜材料”。在芯片制造的過程中，有接近一半的時間是花費在光刻上，該過程不僅需要用到光刻機，還需要在硅晶片上添加一層光刻膠。

這樣的做法可以提升芯片的光刻的精度，等于光刻膠的質(zhì)量越高，光刻的精度大概率越高。換而言之，即使你有最先進的光刻機，但沒有好的光刻膠，光刻的精度也不會很高，最終制造出來的芯片也不會成為精度很高的高端芯片。基于此，光刻膠對半導體產(chǎn)業(yè)的重要性，已經(jīng)不言而喻了！

那么問題來了，日本光刻膠大廠對我國斷供光刻膠又會產(chǎn)生什么影響？通過剛才的介紹，相信大家已經(jīng)認知到光刻膠的重要性，但不幸的是，因為光刻膠是芯片制造的核心耗材，技術壁壘很高，但我國在相關領域卻一直處于劣勢地位。

因為整體技術水平不行，在光刻膠領域我們只能高度依賴進口，但麻煩的是，光刻膠行業(yè)集中度很高，全世界五大廠商占據(jù)了全球87%的市場，其中日本的幾家光刻膠公司市場份額高達72%，至于KrF以及ArF等高級別光刻膠，幾乎完全被美日企業(yè)壟斷！

另外，還有一個很重要的問題，光刻膠有一個致命缺點，就是無法長時間保存。一般情況下，保存時間在3個月到1年之內(nèi)，大部分都需要在半年內(nèi)使用，這種材料特性就注定了我們無法大量囤貨。

這就意味著，現(xiàn)在美日兩國開始對我們斷供高端光刻膠，按照現(xiàn)有庫存，最多一年后我們就會面臨“無光刻膠”可用的情況，所以在1年時間內(nèi)，我們的國產(chǎn)光刻膠必須殺出重圍，實現(xiàn)國產(chǎn)替代。

最后一個問題，眾多國產(chǎn)光刻膠廠家中，誰能脫穎而出擔負重任？當前國內(nèi)一直在布局技術突破的廠商有上海新陽、南大光電、蘇州瑞紅、北京科華以及徐州博康。

這幾家廠商中，上海新陽是上市企業(yè)，實力雄厚，半導體領域的人才眾多，具備殺出重圍的可能性；另外，北京科華不容小覷，它是上市企業(yè)彤程新材旗下的控股子公司，并且還是一家專門研究光刻膠的廠商，我國第一條高端KrF光刻膠生產(chǎn)線、國內(nèi)首支ArF干法光刻膠樣品北京科華建設與開發(fā)出來的。

綜上所述，我個人認為，哪怕美日兩國對我國光刻膠領域?qū)嵤┤嬷撇貌呗裕疚覀冇幸欢ǖ鬃?，具備抗風險能力。因此，這場危機或許也是一個機遇，在外部巨大的壓力下，我國光刻膠廠商背水一戰(zhàn)，最終一定能夠突破他們的封鎖。