近日，日本正式宣布，將限制23項半導(dǎo)體設(shè)備出貨，5月正式頒布禁令，7月開始生效。

據(jù)該清單顯示，包括3項清洗設(shè)備、11項薄膜沉積設(shè)備、1項熱處理設(shè)備、4項光刻/曝光設(shè)備、3項刻蝕設(shè)備、1項測試設(shè)備均被限制出口。

日本這次可謂全面封鎖，上述設(shè)備或卡住覆膜、光刻機(jī)膠涂布、光掩膜制造光刻機(jī)、蝕刻、清洗、晶圓檢測等前道工序，幾乎涉及了整個生產(chǎn)流程。

在此之前，日本與我國保持著良好的對外貿(mào)易關(guān)系，對華出口的設(shè)備不僅是光刻機(jī)，還有KrF光刻膠。

簡言之，在中國半導(dǎo)體的發(fā)展歷程中，日本扮演了重要的角色，這是因為日本尼康、佳能不像荷蘭ASML那樣擁有龐大的光刻機(jī)市場，所以中企客戶對他們而言極為重要，但此次日本宣布23項禁令后，無異于向大陸撕破了臉，或徹底放棄中國大陸市場。

且在宣布禁令之前，日本已經(jīng)選好了退路，首相岸田文雄訪問印度，積極向印度開展半導(dǎo)體相關(guān)的友好合，因為有消息稱，印度要打造代替中國的半導(dǎo)體聚集地。

在訪問印度期間，岸田文雄多次強(qiáng)調(diào)，印度是日本和整個印太地區(qū)必不可少的合作伙伴，在接下來的7年里，日本將投資近10萬億日元。

且據(jù)臺灣《關(guān)鍵時刻》披露，拜登正在與荷蘭ASML商討進(jìn)一步限制光刻機(jī)出貨一事，或讓大陸半導(dǎo)體倒退10年。如此一來，不僅是單一光刻設(shè)備，ASML全系列DUV光刻機(jī)都將會被禁售。

要知道，國產(chǎn)光刻機(jī)的水平在90nm制程，中芯國際在2013年的時候可以生產(chǎn)45nm芯片，若真讓大陸代工水平停留在90nm，已經(jīng)不止倒退10年了。

對此外媒表示，芯片戰(zhàn)結(jié)局已經(jīng)愈發(fā)清晰了，中國芯輸了！日本全面限制光刻機(jī)后，ASML的封鎖只會更加嚴(yán)格，上海微電子90nm光刻機(jī)翻不起多大的浪花。

外媒這一分析不無道理，盡管在梁夢孟松的帶領(lǐng)下，中芯國際的代工水平突飛猛進(jìn)，從90nm迅速突破至14nm，但7nm及更先進(jìn)的工藝卻仍未掌握，這還是使用ASML DUV光刻機(jī)的結(jié)果，若采用國產(chǎn)光刻機(jī)，28nm制程都難突破。

難道中國芯真就這樣輸了？無數(shù)中企、高校、研究所的努力都白費了嗎？

實際上并非如此，中國芯還未輸，芯片博弈的結(jié)局未可知，別忘了中國還有量子芯片。

據(jù)悉，我國第一條量子芯片生產(chǎn)線已經(jīng)搭建完畢，事實證明，量子芯片的制造過程無需使用EUV光刻機(jī)，且量子芯片較傳統(tǒng)硅基芯片的性能理論上可以提高百倍、千倍。

因此，量子芯片成為我國繞開高端光刻機(jī)的“殺手锏”，若將其發(fā)揚(yáng)光大，使其能在更多場景應(yīng)用，那么大陸半導(dǎo)體將有機(jī)會徹底擺脫“卡脖子”難題。

綜上所述，我國雖然掌握了量子芯片技術(shù)，但從整體水平上來看仍然落后美國，抓緊關(guān)鍵技術(shù)的研發(fā)，攻克核心技術(shù)難題，才是當(dāng)下首要目標(biāo)。

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