芯片產(chǎn)業(yè)

從一窮二白成長到年產(chǎn)3241.9億塊芯片，中國半導體產(chǎn)業(yè)走過了振奮人心的十幾年。半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展不僅僅意味著在芯片領域逐步實現(xiàn)國產(chǎn)化，同時也意味著我們已經(jīng)逐步從傳統(tǒng)制造業(yè)中走出來，開始向高科技領域進行產(chǎn)業(yè)升級。

但一個顯而易見的問題是，全球高端產(chǎn)業(yè)的市場份額是有限的，隨著中國不斷搶占更多市場份額的同時，美國在科技產(chǎn)業(yè)話語權則在不斷衰落。一個不容忽視的事實是，美債總量已經(jīng)超過31.8萬億美元。這是什么概念呢？按照如今美債的規(guī)模，美國一年僅僅利息支出就高達15000億美元。所以如今美國已經(jīng)陷入了借新債還舊債的衰落螺旋，任何挑戰(zhàn)者的出現(xiàn)都將加速這一過程。

美國國債總量超過31.8萬億美元

因此對于中國半導體產(chǎn)業(yè)的發(fā)展，美國動用了包括斷供、禁售等多種手段試圖延緩國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。但是由于中國強大的基建能力以及龐大的半導體消費市場，因此美國的圖謀最終以失敗告終。

中國和美國在高科技領域進行競爭

因此其后美國又聯(lián)合日本和荷蘭推出芯片三方協(xié)議，試圖從上游來針對國產(chǎn)芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。不得不說相對于以往美國自己的“沖鋒陷陣”，拉攏日本和韓國之后的芯片三方協(xié)議確實將產(chǎn)生更大的影響。

日本將于7月23日實施半導體規(guī)制

先是日本在5月23日宣布了將對光刻、蝕刻、曝光、檢查、成膜、清洗、熱處理、薄膜沉積在內(nèi)的23個品類進行出口管制。這次出口管制的規(guī)模和范圍也超出了以往的管制，甚至將對部分45nm制程的芯片工業(yè)造成影響。

要知道如今日本在全球半導體材料市場處于領先位置，在包括硅晶圓、光罩、焊線、光刻膠、陶瓷板、靶材料、引線架、塑料板、TAB、COF、保護涂膜、封裝材料、合成半導體晶圓在內(nèi)的14種重要材料領域占有超過50%的份額。

荷蘭也將于近期公布半導體規(guī)制細節(jié)

其后荷蘭同樣表示將跟隨美國，根據(jù)路透社的報道內(nèi)容，荷蘭外交大臣胡克斯特拉表示，“荷蘭將按計劃實施芯片出口管制并于幾周后公布細節(jié)”（details were likely to be published over the coming weeks）。

荷蘭擁有全球光刻機霸主ASML，根據(jù)數(shù)據(jù)統(tǒng)計顯示，在EUV、ArFi、ArF三種光刻機市場中，ASML出貨149臺，占有95%的市場；Nikon出貨8臺，占有5%的市場。特別是在7nm及更先進制程所需要的EUV光刻機領域，ASML更是占據(jù)了100%的市場份額。

芯片制造

美國聯(lián)合日本、荷蘭進行半導體封鎖后，國內(nèi)芯片企業(yè)要做好過苦日子的準備了。以往美國單獨行動之時，由于其優(yōu)勢產(chǎn)業(yè)集中在高通、英特爾、英偉達、德州儀器、AMD等芯片企業(yè)。當其選擇斷供之時雖然在短期內(nèi)會對中國的半導體產(chǎn)業(yè)產(chǎn)生影響，但是從長期來看反而會將市場白白讓給中國企業(yè)。

在經(jīng)過4年時間之后，中國芯片產(chǎn)業(yè)不但沒有倒下，反而愈發(fā)茁壯成長，年產(chǎn)3241.9億塊芯片就是最好的證明。當發(fā)現(xiàn)這一條路走不通之后，美國聯(lián)合日本和荷蘭試圖從“根”上阻截中國芯片產(chǎn)業(yè)的發(fā)展。

半導體材料

不得不說美國這次的選擇確實更加“高明”。日本掌握了芯片上游的半導體材料領域，荷蘭掌握了制造芯片最為關鍵的光刻機領域，再加上美國自己，這三個國家聯(lián)合起來可以從上游堵住國產(chǎn)芯片企業(yè)的發(fā)展，試圖將中國芯片產(chǎn)業(yè)封鎖在技術含量低、產(chǎn)品附加值低的行業(yè)，從而打斷產(chǎn)業(yè)升級的步伐。

國產(chǎn)芯片

國產(chǎn)芯片企業(yè)也要做好過苦日子的準備。在半導體材料領域，雖然也涌現(xiàn)出了江豐電子（靶材）、深南電路（封裝基板）、南大光電（光刻膠、電子氣體）、上海新昇（硅片），但是國產(chǎn)半導體材料自給率僅為10%，因此在短期內(nèi)遭遇斷供必然會影響芯片制造。

同時在光刻機領域，上海微電子作為“全村的希望”，也承擔了光刻機國產(chǎn)化的重任。目前能夠用于28nm芯片制程的光刻機（傳聞型號為SSA800/10W）依然沒有最終下線。同時也不得不承認28nm相對于目前ASML的3nm光刻機依然有不小的距離。

光刻機

但是從長期來看，這些半導體材料、光刻機領域也等于給國產(chǎn)企業(yè)的發(fā)展讓出了空間。這其實也是產(chǎn)業(yè)升級的機會和契機，等到國產(chǎn)取得突破之后，就算日本、荷蘭廠商回頭來求我們購買他們的產(chǎn)品也沒有機會留給他們了。