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在2月以來的震蕩行情中，有一個相對陌生的概念表現(xiàn)卻比較突出，走出了一波明顯的結構性行情，它就是“光刻膠”！而在最近的新聞中，“光刻膠”露面的次數也不少——5月23日日本經濟產業(yè)省發(fā)布出口貿易管制令征求意見稿結果，明確對6大類23項半導體設備限制出口，具體為3項清洗設備、11項成膜設備、1項熱處理設備、4項曝光設備、3項蝕刻設備、1項測試設備。
業(yè)內分析稱，“日本此次禁運的23種半導體設備中，熱處理、前道涂膠顯影設備、清洗、檢測等設備均有企業(yè)推出符合市場要求的產品，唯獨國產高端光刻膠屬于空白領域，在此背景下，國產半導體產業(yè)鏈正謀求合力突破高端光刻膠封鎖?！保ㄉ鲜鰠⒖迹航鹑诮?，2023.06.06）
很明顯，這又是「國產替代中一個很重要的細分賽道」。究竟什么是光刻膠？在國產替代中又占據著什么樣的位置？今天我們就來聊聊這個新概念～
01光刻膠、光刻與芯片
光刻膠又稱“光致抗蝕劑”，是一種對光敏感的混合液體。光刻膠可以與光線發(fā)生反應，讓芯片材料上出現(xiàn)所需的精密電路圖案，因此被廣泛應用于光電信息產業(yè)的微細圖形線路的加工制作，是微細加工技術的關鍵性材料。
是不是感覺比較專業(yè)？非專業(yè)人士聽聽就過了，大家只要知道兩件事就行——
一是，光刻是芯片制造所需要的關鍵步驟。從最早誕生于電路設計師的圖紙中，到送去半導體車間經由光刻機反復光刻，中間經過數百道工藝的層層打磨，一顆嶄新的芯片才正式誕生，在整個芯片制造過程中可能需要進行數十次的光刻。光刻工藝成本占到整個芯片制造工藝大約是35%，耗時約占整個芯片生產環(huán)節(jié)的40%-50%。簡單概括就是，光刻的時間成本和制造成本都占據了芯片制造的“大頭”。（數據來源：中科院半導體所，2020.11.11）
二是，光刻膠是光刻工藝中不可或缺的核心材料，在半導體制造環(huán)節(jié)中有著重要作用。光刻出的電路圖案越精密，就代表著芯片的性能越好，而光刻膠貫穿半導體光刻工藝中涂膠、曝光+顯影、刻蝕、清洗等主要流程，所以光刻膠的質量直接決定了半導體產品的質量。尤其是近年來半導體制程的提升，對光刻膠質量提出了更高要求，前幾年中國臺積電就曾因為光刻膠質量問題報廢了10萬片晶圓。因此，光刻膠又被譽為“半導體材料皇冠上的明珠”。（數據來源：金融界，2023.06.06）
由此我們可以得出兩個結論：第一，光刻在芯片的制造過程中至關重要，而光刻膠是光刻工藝的核心材料，它的質量和性能會直接影響到集成電路制造過程中的質量和性能；第二，芯片行業(yè)的快速發(fā)展離不開光刻工藝的發(fā)展，光刻工藝則離不開光刻膠這些關鍵材料的研發(fā)迭代。（上述參考：招商證券，2021.08.06；證券之星，2021.06.02）
02國產替代迎來良機了解了光刻膠的重要性，接下來咱們看看一開始提到的那個關鍵詞：國產替代。
為什么光刻膠行業(yè)的國產替代迫在眉睫呢？
第一個原因，目前全球光刻膠市場被日本JSR等五家龍頭企業(yè)所壟斷，它們占據了全球光刻膠市場87%的份額，日本不僅手握全球七成以上的光刻膠專利，而且還具有完整的光刻膠生產鏈。相比之下，中國光刻膠的專利儲備量僅占全球光刻膠專利總量的7%。（數據來源：國海證券，2022.08.26；金融界，2023.06.06）
第二個原因咱們剛剛聊過，光刻膠的質量直接決定了半導體產品的質量，但高端光刻膠市場日本處于絕對壟斷地位，我國光刻膠生產主要集中在PCB光刻膠等中低端產品，其中7nm及更先進制程光刻膠的研發(fā)基本處于空白階段。（參考來源：國海證券，2022.08.26）
在這種情況下，光刻膠尤其是高端光刻膠的國產替代迫在眉睫。國外斷供風險升級推動中國半導體國產化率提升，國內企業(yè)積極研發(fā)布局，力爭在高端光刻膠領域突破海外壟斷，這也為國產替代提供了良機。據統(tǒng)計，在2016-2021年的五年間，全球晶圓制造市場規(guī)模由652億美元提升至1101億美元，CAGR為11.05%，同期中國晶圓制造市場規(guī)模由49.05億美元提升至115.65億美元，達到15.36%，行業(yè)增速高于全球。（數據來源：太平洋證券，2023.04.18；本文不作個股推薦）
伴隨晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導體光刻膠產業(yè)鏈轉移，感興趣的小伙伴可以多多關注相關領域機會～
溫馨提示：本資料不作為任何法律文件，資料中的所有信息或所表達意見不構成投資、法律、會計或稅務的最終操作建議，我公司不就資料中的內容對最終操作建議做出任何擔保。在任何情況下，本公司不對任何人因使用本資料中的任何內容所引致的任何損失負任何責任。我國基金運作時間較短，不能反映股市發(fā)展的所有階段。市場有風險，入市需謹慎。
業(yè)內分析稱，“日本此次禁運的23種半導體設備中，熱處理、前道涂膠顯影設備、清洗、檢測等設備均有企業(yè)推出符合市場要求的產品，唯獨國產高端光刻膠屬于空白領域，在此背景下，國產半導體產業(yè)鏈正謀求合力突破高端光刻膠封鎖?！保ㄉ鲜鰠⒖迹航鹑诮?，2023.06.06）
很明顯，這又是「國產替代中一個很重要的細分賽道」。究竟什么是光刻膠？在國產替代中又占據著什么樣的位置？今天我們就來聊聊這個新概念～
01光刻膠、光刻與芯片
光刻膠又稱“光致抗蝕劑”，是一種對光敏感的混合液體。光刻膠可以與光線發(fā)生反應，讓芯片材料上出現(xiàn)所需的精密電路圖案，因此被廣泛應用于光電信息產業(yè)的微細圖形線路的加工制作，是微細加工技術的關鍵性材料。
是不是感覺比較專業(yè)？非專業(yè)人士聽聽就過了，大家只要知道兩件事就行——
一是，光刻是芯片制造所需要的關鍵步驟。從最早誕生于電路設計師的圖紙中，到送去半導體車間經由光刻機反復光刻，中間經過數百道工藝的層層打磨，一顆嶄新的芯片才正式誕生，在整個芯片制造過程中可能需要進行數十次的光刻。光刻工藝成本占到整個芯片制造工藝大約是35%，耗時約占整個芯片生產環(huán)節(jié)的40%-50%。簡單概括就是，光刻的時間成本和制造成本都占據了芯片制造的“大頭”。（數據來源：中科院半導體所，2020.11.11）
二是，光刻膠是光刻工藝中不可或缺的核心材料，在半導體制造環(huán)節(jié)中有著重要作用。光刻出的電路圖案越精密，就代表著芯片的性能越好，而光刻膠貫穿半導體光刻工藝中涂膠、曝光+顯影、刻蝕、清洗等主要流程，所以光刻膠的質量直接決定了半導體產品的質量。尤其是近年來半導體制程的提升，對光刻膠質量提出了更高要求，前幾年中國臺積電就曾因為光刻膠質量問題報廢了10萬片晶圓。因此，光刻膠又被譽為“半導體材料皇冠上的明珠”。（數據來源：金融界，2023.06.06）
由此我們可以得出兩個結論：第一，光刻在芯片的制造過程中至關重要，而光刻膠是光刻工藝的核心材料，它的質量和性能會直接影響到集成電路制造過程中的質量和性能；第二，芯片行業(yè)的快速發(fā)展離不開光刻工藝的發(fā)展，光刻工藝則離不開光刻膠這些關鍵材料的研發(fā)迭代。（上述參考：招商證券，2021.08.06；證券之星，2021.06.02）
02國產替代迎來良機了解了光刻膠的重要性，接下來咱們看看一開始提到的那個關鍵詞：國產替代。
為什么光刻膠行業(yè)的國產替代迫在眉睫呢？
第一個原因，目前全球光刻膠市場被日本JSR等五家龍頭企業(yè)所壟斷，它們占據了全球光刻膠市場87%的份額，日本不僅手握全球七成以上的光刻膠專利，而且還具有完整的光刻膠生產鏈。相比之下，中國光刻膠的專利儲備量僅占全球光刻膠專利總量的7%。（數據來源：國海證券，2022.08.26；金融界，2023.06.06）
第二個原因咱們剛剛聊過，光刻膠的質量直接決定了半導體產品的質量，但高端光刻膠市場日本處于絕對壟斷地位，我國光刻膠生產主要集中在PCB光刻膠等中低端產品，其中7nm及更先進制程光刻膠的研發(fā)基本處于空白階段。（參考來源：國海證券，2022.08.26）
在這種情況下，光刻膠尤其是高端光刻膠的國產替代迫在眉睫。國外斷供風險升級推動中國半導體國產化率提升，國內企業(yè)積極研發(fā)布局，力爭在高端光刻膠領域突破海外壟斷，這也為國產替代提供了良機。據統(tǒng)計，在2016-2021年的五年間，全球晶圓制造市場規(guī)模由652億美元提升至1101億美元，CAGR為11.05%，同期中國晶圓制造市場規(guī)模由49.05億美元提升至115.65億美元，達到15.36%，行業(yè)增速高于全球。（數據來源：太平洋證券，2023.04.18；本文不作個股推薦）
伴隨晶圓制造規(guī)模持續(xù)提升，中國有望承接半導體光刻膠產業(yè)鏈轉移，感興趣的小伙伴可以多多關注相關領域機會～
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