
半導(dǎo)體制造中使用的氣體制造半導(dǎo)體的過(guò)程需要在不同階段使用不同的氣體,雖然氮?dú)?、氫氣、氬氣和氦氣等常?jiàn)氣體可以以其純凈形式使用,但某些工藝可能需要專(zhuān)門(mén)的混合物。硅烷或硅氧烷、六氟化物、鹵化物和碳?xì)浠衔锸前雽?dǎo)體制造中使用的幾種特種氣體。在這些氣體中,許多氣體可能是危險(xiǎn)的或高反應(yīng)性的,這給氣體系統(tǒng)的組件選擇和設(shè)計(jì)帶來(lái)了挑戰(zhàn)。這里有一些例子:由于原子尺寸和重量較小,氫氣和氦氣很容易從管道和配件系統(tǒng)中泄漏。硅烷高度易燃,在空氣中可自燃(自燃)。在沉積、蝕刻和腔室清潔階段使用的二氟化氮在泄漏到環(huán)境中時(shí)會(huì)成為一種有效的溫室氣體。氟化氫(蝕刻氣體)對(duì)金屬管道具有很強(qiáng)的腐蝕性。三甲基鎵和氨可能很難處理——它們的溫度和壓力要求的微小波動(dòng)都會(huì)影響沉積過(guò)程。在系統(tǒng)設(shè)計(jì)過(guò)程中,控制工藝條件以盡量減少這些氣體的負(fù)面影響必須是首要任務(wù)。在構(gòu)建過(guò)程中,使用AFK隔膜閥等最高質(zhì)量的組件也同樣重要。應(yīng)對(duì)系統(tǒng)設(shè)計(jì)挑戰(zhàn)半導(dǎo)體級(jí)氣體在大多數(shù)情況下都是高純度的,并在制造過(guò)程的不同階段(例如蝕刻和沉積氣體)提供惰性條件或增強(qiáng)反應(yīng)。此類(lèi)氣體的泄漏或污染可能會(huì)產(chǎn)生負(fù)面影響。因此,對(duì)于所使用的系統(tǒng)組件來(lái)說(shuō),具有密封性和耐腐蝕性以及光滑的表面處理(電解拋光)至關(guān)重要,以確保不存在污染的可能性,并且可以保持極高的清潔度。

此外,這些氣體中的一些可以被加熱或冷卻以達(dá)到期望的工藝條件。絕緣良好的組件可以確保溫度控制,這對(duì)于最終產(chǎn)品的高效性能至關(guān)重要。從源入口到使用點(diǎn),AFK的各種組件支持半導(dǎo)體潔凈室和真空室所需的超高純度、溫度、壓力和流量控制。半導(dǎo)體工廠中采用優(yōu)質(zhì)組件的設(shè)計(jì)系統(tǒng)優(yōu)質(zhì)元件和設(shè)計(jì)優(yōu)化的作用對(duì)于半導(dǎo)體的精確控制和安全制造至關(guān)重要。使用的組件需要堅(jiān)固且無(wú)泄漏,以符合不同制造階段所需的不同工藝條件。AFK的高品質(zhì)閥門(mén)、接頭、調(diào)壓閥、管道和密封支架具有以下特點(diǎn):超高純度無(wú)泄漏密封溫控保溫壓力控制耐腐蝕性能電解拋光處理