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半導(dǎo)體設(shè)備業(yè)績(jī)確定性最強(qiáng)?機(jī)構(gòu):這些環(huán)節(jié)一旦突破還更高彈性

作者:第一財(cái)經(jīng) 來源: 頭條號(hào) 77812/25

受益于下游晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)等因素,設(shè)備已成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中業(yè)績(jī)確定性最強(qiáng)的細(xì)分領(lǐng)域......至***(603***)7月6日公告稱,公司上半年新增訂單總金額為23.62億元,同比增長(zhǎng)37.33%,其中,半導(dǎo)體設(shè)備新增訂單金額為8.06億元;中**

標(biāo)簽:

受益于下游晶圓廠擴(kuò)產(chǎn)等因素,設(shè)備已成為半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)中業(yè)績(jī)確定性最強(qiáng)的細(xì)分領(lǐng)域......

至***(603***)7月6日公告稱,公司上半年新增訂單總金額為23.62億元,同比增長(zhǎng)37.33%,其中,半導(dǎo)體設(shè)備新增訂單金額為8.06億元;中***(688***)7月5日公告稱,上半年新增訂單金額為30.6億元,同比增長(zhǎng)62%;華***(688***)表示今年很多客戶會(huì)新建產(chǎn)線,對(duì)應(yīng)需求量較好,訂單情況比較樂觀,預(yù)計(jì)上半年凈利潤(rùn)1.40億~1.80億元,同比增長(zhǎng)98.46%~155.17%。

光大證券認(rèn)為點(diǎn)擊解鎖涉及公司及詳情

國(guó)產(chǎn)設(shè)備加速追趕國(guó)際企業(yè)

半導(dǎo)體設(shè)備是半導(dǎo)體制造的基石,是半導(dǎo)體行業(yè)的基礎(chǔ)和核心。半導(dǎo)體工藝流程主要包括硅片制造、IC設(shè)計(jì)、芯片制造和芯片封測(cè),從產(chǎn)業(yè)鏈來看,半導(dǎo)體設(shè)備在硅片制造以及芯片制造的前道/后道工藝中均發(fā)揮著重要作用......

盡管部分國(guó)產(chǎn)設(shè)備目前穩(wěn)定性、良率方面等相較國(guó)際大廠仍有差距,但只要下游廠商愿意導(dǎo)入國(guó)產(chǎn)設(shè)備,長(zhǎng)遠(yuǎn)來看,部分國(guó)產(chǎn)設(shè)備技術(shù)能力、穩(wěn)定性、良率將隨與下游客戶的積累持續(xù)加速提升,將實(shí)現(xiàn)從“能用”到“好用”的轉(zhuǎn)變,如**公司在部分MOCVD設(shè)備市場(chǎng)已實(shí)現(xiàn)對(duì)海外巨頭的超越。

刻蝕設(shè)備:點(diǎn)擊解鎖涉及公司及詳情

刻蝕設(shè)備占據(jù)半導(dǎo)體設(shè)備超20%的市場(chǎng),2021年全球刻蝕設(shè)備市場(chǎng)規(guī)模為194億美元,預(yù)計(jì)2022年將達(dá)到216億美元??涛g設(shè)備市場(chǎng)集中度高,被三家龍頭企業(yè)壟斷,其中......

薄膜沉積設(shè)備:****、****、****

薄膜沉積是指在硅片襯底上沉積一層待處理的薄膜材料,如二氧化硅、氮化硅、多晶硅等非金屬以及銅等金屬。薄膜沉積設(shè)備主要分CVD、PVD、ALD三大類,其中CVD市場(chǎng)占比最高......目前......

****具備CVD、ALD供應(yīng)能力,CVD產(chǎn)品包括PECVD和SACVD,其中主力產(chǎn)品為PECVD,盡管北方華創(chuàng)也有PECVD產(chǎn)品,但目前主要應(yīng)用于光伏/LED領(lǐng)域。

****薄膜沉積產(chǎn)品線較為全面,具備PVD、CVD、ALD產(chǎn)品供應(yīng)能力,在PVD設(shè)備領(lǐng)域競(jìng)爭(zhēng)優(yōu)勢(shì)顯著,國(guó)內(nèi)產(chǎn)線導(dǎo)入的國(guó)產(chǎn)PVD設(shè)備基本均出自北方華創(chuàng)。

****主要為MOCVD設(shè)備,為北方華創(chuàng)、拓荊科技未產(chǎn)業(yè)化涉足的領(lǐng)域,產(chǎn)品應(yīng)用于化合物半導(dǎo)體,其主要客戶為乾照光電、三安光電等LED生產(chǎn)廠商。

光刻機(jī):****

光刻機(jī)是集成電路制造的核心設(shè)備之一,技術(shù)難度極高......

檢測(cè)設(shè)備:****

檢測(cè)設(shè)備是應(yīng)用于工藝過程中的測(cè)量類設(shè)備和缺陷(含顆粒)檢查類設(shè)備的統(tǒng)稱......國(guó)內(nèi)前道檢測(cè)企業(yè)主要有點(diǎn)擊解鎖涉及公司名單

清洗設(shè)備:......

半導(dǎo)體清洗是指針對(duì)不同的工藝需求對(duì)晶圓表面進(jìn)行無(wú)損傷清洗以去除半導(dǎo)體制造過程中的顆粒、自然氧化層、金屬污染、有機(jī)物、犧牲層、拋光殘留物等雜質(zhì)的工序。

清洗設(shè)備為半導(dǎo)體制造的重要設(shè)備之一,清洗步驟約占整體步驟的1/3。

我國(guó)半導(dǎo)體清洗領(lǐng)域的重要參與者包括

點(diǎn)擊解鎖公司名單及中國(guó)半導(dǎo)體清洗設(shè)備企業(yè)產(chǎn)品及相關(guān)技術(shù)情況圖示

涂膠顯影設(shè)備:......

CMP設(shè)備:......

離子注入機(jī):......

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